碩士畢業時長
3.17 年
中位數・平均 3.17 年・1 人（樣本太少）
全校 2.11 年
全校 2.11 年
收錄論文
1 篇
107–107 學年度
畢業時長只統計 碩士 100–111 學年度入學的學生：太近的入學年度還有同屆沒畢業，算進來會讓時長看起來偏短，詳見說明。下表與圖中灰色的論文不列入統計。
畢業時長趨勢
每學年度畢業人數
只計入有論文收錄的畢業生；中途休學或更換指導教授的學生不會出現在這裡。
研究關鍵字
無光罩無光罩微影繞射純量繞射傅式轉換遞迴傅立葉演算法空間光調變器均勻對比度曝光影像相位移光罩masklessmaskless lithographydiffractionscalar diffractionFourier transformSLMIFTA algorithmuniformitycontrastexposure imagephase-shifting mask
點關鍵字可以找研究同一主題的其他教授（灰色的只出現過一次，不列入搜尋）。 想看最新的研究方向與計畫經費，也可以查政府研究計畫（GRB）。
指導論文
| 學年度 | 論文 | 學制 | 入學 | 提交日期 | 畢業時長 |
|---|---|---|---|---|---|
| 107 | A diffraction maskless lithography system that uses the Fourier transform domain 照明與能源光電研究所・共同指導：許根玉 無光罩、無光罩微影、繞射、純量繞射、傅式轉換、遞迴傅立葉演算法、空間光調變器、均勻、對比度、曝光影像、相位移光罩、maskless、maskless lithography、diffraction、scalar diffraction、Fourier transform、SLM、IFTA algorithm、uniformity、contrast、exposure image、phase-shifting mask | 碩士 | 104 | 2018-10-02 | 3.17 年 |