古慶順

Ching-Shun Ku・工學院

碩士畢業時長
1.98 年
中位數・平均 1.99 年・4 人(樣本太少)
全校 2.11 年
收錄論文
5 篇
102–107 學年度

畢業時長只統計 碩士 100–111 學年度入學的學生:太近的入學年度還有同屆沒畢業,算進來會讓時長看起來偏短,詳見說明。下表與圖中灰色的論文不列入統計。

畢業時長趨勢

每學年度畢業人數

只計入有論文收錄的畢業生;中途休學或更換指導教授的學生不會出現在這裡。

研究關鍵字

氧化鋅磊晶ZnOEpitaxialatomic layer deposition高(111)優選方向奈米雙晶銅膜殘留應力電鍍溫度電鍍波形residual stresshighly (111)-oriented nanotwinned Cubath temperaturesplating waveforms高電子遷移率電晶體氮化鎵同步輻射勞厄繞射缺陷密度偏應力X光激發螢光High Electron Mobility TransistorGaNSynchrotron radiationLaue diffractionDislocation densityDeviatoric stressX-ray Excited Optical Luminescence表面聲波元件SAW原子層沉積法發光二極體LEDP型氧化鋅薄膜原子層沈積系統P-type ZnO thin films

點關鍵字可以找研究同一主題的其他教授(灰色的只出現過一次,不列入搜尋)。 想看最新的研究方向與計畫經費,也可以查政府研究計畫(GRB)。

指導論文

學年度論文學制入學提交日期畢業時長
107
Tuning residual stress in highly (111)-oriented nanotwinned Cu
材料科學與工程學系所・共同指導:陳智
高(111)優選方向奈米雙晶銅膜、殘留應力、電鍍溫度、電鍍波形、residual stress、highly (111)-oriented nanotwinned Cu、bath temperatures、plating waveforms
碩士1062019-08-022.00 年
107
Using synchrotron nano-beam X-ray to probe the crystal structure and its optical properties for HEMT heterostructure
工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導:周武清
高電子遷移率電晶體、氮化鎵、同步輻射、勞厄繞射、缺陷密度、偏應力、X光激發螢光、High Electron Mobility Transistor、GaN、Synchrotron radiation、Laue diffraction、Dislocation density、Deviatoric stress、X-ray Excited Optical Luminescence
碩士1062019-07-291.99 年
103
Surface Acoustic Wave Device Properties of ZnO Grown on Sapphire
工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導:周武清
表面聲波元件、氧化鋅、磊晶、SAW、ZnO、Epitaxial
碩士1022015-07-271.98 年
102
Epitaxial Al-doped ZnO Thin Films by Using In-situ Doping Atomic Layer Deposition
工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導:周武清
原子層沉積法、氧化鋅、磊晶、發光二極體、atomic layer deposition、ZnO、epitaxial、LED
碩士1012014-07-271.98 年
102
In situ doping p-type ZnO thin film prepared by atomic layer deposition
工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導:陳智
P型氧化鋅薄膜、原子層沈積系統、P-type ZnO thin films、Atomic layer deposition
碩士101—無法計算

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